美国Allied高精密研磨系统

MultiPrep™ System - 8"

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产品详情

MultiPrep™ 系统能够对各种材料进行精确的半自动样品制备,用于显微镜(光学5️⃣、SEM、FIB、TEM、AFM 等)评估。

功能包括平行抛光👩🏻‍⚕️🐅、角度抛光🏜、特定地点抛光或它们的任意组合🏃🏻‍➡️。它通过消除用户之间的不一致来提供可重现的结果,无论他们的技能如何。

双千分尺(俯仰和滚动)允许相对于磨料平面精确调整样品倾斜度。刚性 Z 轴分度主轴在整个磨削/抛光过程中保持预定义的几何方向👩🏽‍🔧👨🏻‍💼。数字指示器可实现可量化的材料去除🚄,可以实时监控,或预设为无人值守作👩🏼。变速旋转和振荡最大限度地利用了整个研磨/抛光盘,并最大限度地减少了伪影🛋💇‍♀️。可调节的样品量控制扩展了其处理范围从小(易碎)到大样品的能力。

MultiPrep 定位头特点:

前数字指示器可显示实时材料去除(样品推进),分辨率为 1 μm   精密转子,使样品垂直于压板分度,并可同时旋转
样品的双轴、微米控制角度定位(俯仰和滚动)🥅:+10°/-2.5° 范围(0.02° 增量)   后部数字指示器🎂,用于显示垂直定位(静态),具有归零功能,分辨率为 1 μm
7 种速度的完全或有限自动样品旋转   凸轮锁定系统,无需工具,并允许精确重新定位夹具
可变样品上样量🐡🧑🏽‍🍼:0-600 g(以 100 g 为增量)   由美国Allied设计和制造




研磨机/抛光机特点:

可变模板速度👬:5-350 RPM(以 5 RPM 为增量)   数字计时器和转速计
7 英寸彩色 LCD 触摸屏,带键盘输入🧑‍🌾,可控制所有功能   顺时针/逆时针压板旋转
与可选的 AD-5™ 流体分配器无缝集成,实现自动作   带可调阀的电子冷却液控制
强大、安静的 0.7 HP (535 W) 无刷直流电机,可在整个速度范围内提供恒定的高扭矩输出   稳定的 RIM🃏、铝和不锈钢结构
模制一体式耐腐蚀和抗冲击盖   溢流分流保护内部组件
由美国Allied设计和制造   两 (2) 年保修
符合欧盟 CE 标准  






Item # Description
15-2200 MULTIPREP™ PRECISION POLISHING SYSTEM for 8" Platen, 100-240 V 50/60 Hz 1 Phase Includes: Splash Ring & Platen Cover, Dial Indicator Calibration Kit, Fixture/Accessory Storage Case
15-2200-TEM MULTIPREP™ SYSTEM with O-Ring Drive, for 8" Platen, 100-240 V 50/60 Hz 1 Phase - Designed for TEM Sample Preparation of Delicate Materials Includes: Splash Ring & Platen Cover, Dial Indicator Calibration Kit, Fixture/Accessory Storage Case

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